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湿法ICP/PECVD尾气处理设备

湿法ICP/PECVD尾气处理设备

本系统主要用于处理ICP/PECVD系统排放的废气，如BCL3，CL2，HCL，SiCl4等水溶性气体。优良的设计保证了高处理效率和容易使用的同时具有低运行和维护成本的特点。标准型系统为4个入口，总气体流量为600LPM。当然，也可以根据客户需要进行设计。

湿法NH3尾气处理设备

湿法NH3尾气处理设备

微电子半导体行业经常会产生对环境高腐蚀性，高危害的气体和颗粒。半导体制程设备排放可能会含有制程气体和新生成的气体或颗粒。出于环境，环境健康方面的考虑和越来越严格的政府规定促使使用空气污染气体排放控制系统。此系统采用文丘里入口和两个对流填料塔设计，主要用来处理MOCVD排放出来的氨气。

干法吸附尾气处理设备X-CARB

干法吸附尾气处理设备X-CARB

Xtek X-CARB POU系列干法吸附式scrubber可以处理各种尾气当中的污染气体。它采用高效优良的吸附媒介来移除有毒物质。根据客户的不同需求，可以提供各种规格配置。内置的各种传感器，可以监测压降，温度，和媒介等情况。

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